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加强了电子厂散发,从而得到高的等阴阳离子体密度计算公式,离化率高、积累速度高,这将这会有利于多膜层紧密性、减少膜层压力;可超低温积累,减少产品的热压力,增加产品的期;
可可以抑制阴离子弧靶种毒、纠正膜层结构设计、控住膜层颗粒剂环境破坏;增添电孤安全性和增进靶材用率;
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