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HiPIMS设计原理

High Power Impulse Magnetron Sputtering（HiPIMS）是高工率单激光输入电磁激光磁控溅射系统，较早由2000年瑞典Kouznetsov等开拓所采用工率单激光输入电磁激光当作磁控溅射的送电模试，在保持良好是一样的平均水平工率，进行减少单激光输入电磁激光主机电源的单激光输入电磁激光事件到30-300us，互相操作单激光输入电磁激光頻率在100-1000Hz，让 瞬时峰峰值工率添加多个数级（如下图图甲中图图甲中），得以产生了过高比热容（1018至1019 m-3）等铝铁离子体，比一般DCMS和MFMS等铝铁离子体比热容（1014至1015 m-3）改善3到4数级。


HiPIMS高技术关键技术：

HiPIMS技术原理

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