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HiPIMS机理

High Power Impulse Magnetron Sputtering（HiPIMS）是高效率电智能磁控溅射的技术，最原始由2002年瑞典Kouznetsov等开拓主要包括效率电智能为磁控溅射的供电公司方法，在保护类似年均效率，用就缩短电智能电源适配器的电智能时到30-300us，一起保持电智能几率在100-1000Hz，让一刹那基线效率新增两个量级（方式图图示），以此引发高水准密度计算计算（1018至1019 m-3）等阴阳离子体，比中国传统DCMS和MFMS等阴阳离子体密度计算计算（1014至1015 m-3）提高了3到4量级。


HiPIMS水平原理图：

HiPIMS技术原理

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