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HiPIMS--高离化率

HiPIMS在高峰值电流500-1000A下，对金属靶材Ti，Cr，Cu，Ta，TiAl，CrAl等形成高离化率辉光，离化率能达到80%以上。

HiPIMS--高结合力

HiPIMS高离化率积极配合脉宽偏电容式源云同步建立了对重重金属材料制阴阴离子的能量是什么与生长去调空，对肌底去重重金属材料制阴阴离子刻蚀清洁，建立了在重重金属材料制和卫浴淘瓷、窗户玻璃、光纤线等隔绝肌底建立了高紧密联系力，TiN在稳定钢磕碰紧密联系力85N，在卫浴淘瓷肌底重重金属材料制化Cu紧密联系力公测完成115N/mm2。

HiPIMS--高致密性

HiPIMS高离化率致使在岩浆岩聚酯板镀层与铝合金镀层时，更易调节作用铝合金阴阳离子对膜层的轰击，能确保膜层的高非均质性繁殖，与常用DC/MF机制对比，膜层纵剖面非均质平整；在光纤传输铝合金化锡焊后，密封垫能力测试仪能达到4.4*10-9 Pa.m3/s。

HiPIMS--高绕射性（3D镀膜均匀性）

HiPIMS电在那一瞬间变成高顶值工作电流，变成高比热容等铝离子体，导致女性朋友零部件破乳平滑性适度上升，在两侧、凹孔、通孔等外观内也能够变成平滑非均质表层；HiPIMS技术工艺岩浆岩孔内内壁处膜层非均质滑腻，孔内金屬层方块阻值更平滑且更低。

HiPIMS--微深孔镀膜能力

HiPIMS形成超高密度等离子体与脉冲偏压的脉冲同步配合，通过金属离子溅射沉积和刻蚀方式实现微深孔内壁金属化（孔径40um，孔深500um）；在陶瓷微孔（深径比为12）内壁金属化膜层均匀致密，接近垂直生长。

HiPIMS--高亮度

HiPIMS进行二次搬运费体积密度等阴离子体，推动靶材和反應气休的高离化率，获得高非均质和表面层平整膜层。HiPIMS光催化原理TiN透明度L值提高76.3，远远超出传统与现代MF透明度值七个点。TiCN攻瑰金透明度L值提高65，近乎多弧装饰装修镀透明度值。

HiPIMS--刃口低损伤DLC涂层

HiPIMS超多离化率在激光脉冲偏压等阳离子体鞘层反应下，膜层在刃口处不匀包囊滋生，能确保刃口卷刃度；运用PECVD步骤配制低受伤DLC纳米涂层，强度1500Hv，静摩擦力指数高出0.15，HSS运用力HF1，夹杂Ag，Cu符合抑菌剂效果好。

HiPIMS--光学镀膜领域

HiPIMS溅射靶材与反应气体高离化率，使Ti、Nb、Si靶与氧气反应溅射不会靶中毒，不存在迟滞曲线现象；制备的光学薄膜其致密度高，折射率相对更高，成膜的应力底。