HiPIMS设备:高能脉冲弧PVD设备及脉冲复合PVD设备
HiPIMS设备产品介绍:
高功率离子源在高离子电流密度下在更大面积上实现均匀、更大的离子沉积分布。
各种轻金属、耐热合金和空气金属氧化物的结合溅射,膜层一致。全半自动调控程序,抗腐蚀作用极低




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