中国世俱杯官网入口

HIPiMS技术的主要应用领域有哪些？

HIPiMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高电率单脉冲磁控溅射）的的技术因为本身独一无二的生物学和生物学性，在多工业品和物理学探讨研究方向体现了诸多的的技术用。下类是HIPiMS的的技术的主要是的技术用研究方向非常具体的的技术用经典案例：

What are the advantages of PECVD protection technology

PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:

HiPIMS电源可以沉积氧化物吗

高电率脉冲造成的造成的磁控溅射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一个种聚酯薄膜沉积物物方法，其性能是采用高电率脉冲造成的造成的对靶材展开上升，以上升溅射操作过程的铝离子化数量和沉积物物传送速度。

HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高电热效率输入激光脉冲磁控溅射）电学 气相色谱形成（PVD）技术性，它借助动用高最高值电热效率和低占空比的输入激光脉冲电源开关来建立物料的溅射。

hipims脉冲电源控制模式

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）电脉冲电源开关模块抑制形式是一个种在薄膜和珍珠棉沉积物高技术中广泛应运应运电源开关模块抑制办法。

真空镀膜时为什么要用到高纯气体

真空镀膜时用到高纯气体的原因，可以归结为以下几点，下面将进行详细阐述：
一、减少杂质影响，提升薄膜质量

HiPIMS放电制备纯金属薄膜的优势

怎样提高高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）沉积速率？电源、磁场、工艺自身！