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HIPIMS是高功效输入脉冲信号造成的磁控溅射技木（High power impulse magnetron sputtering）的简写，其目的是使用较高的输入脉冲信号造成的顶值功效和较低的输入脉冲信号造成的占空比来制造高溅射铝合金离化率的的一种磁控溅射技木。

HiPIMS-400A 是由中国世俱杯官网入口科技打造的一款适用于高校镀膜实验需求的真空镀膜电源，可直流+脉冲组合输出，脉冲峰值电流高，具有高离化率，放电密度大、粒子能量高、反应活性好。可作为直流磁控溅射电源的升级替代方案，无需改动即可用于现有磁控系统。抗腐蚀、耐磨损的硬质镀膜工艺中，高功率脉冲磁控溅射应用是不二之选。

的产品基本特征：

多正弦波形设制，具有着交叉抑弧特性，膜层更细致。

特意适用于高职院校PVD信息化加工工艺的多弧形因素。

可电话远程控制操作监看和管理，自动调节各项性能参数，远程控制操作关机开关开关电源，风控开关开关电源使用现象。

电脑屏幕齐全一起，消息评议及时且脱贫。走路过程中、用餐均可控之有利，可能实践半途去洗手消毒间也会更从容淡定。