六甲基二硅氧烷（HMDSO）前驱体制备耐腐蚀薄膜

引言

金属制品是生活中不可或缺的，大到轮船飞机，小到铁钉螺丝。现代工业的发展，是以金属为骨骼，但是金属在使用过程中极易腐蚀。防腐蚀工艺有很多种，真空镀膜就是其一。使用PVD技术在表面镀一层耐腐蚀膜层，对平面或者结构简单的零件可以起到很好的保护作用；对于结构复杂，要求所有表面镀上保护膜时，CVD因其本身原理往往有着更好的绕镀性以及覆盖率。以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为前驱体，通过PACVD技术，可以在金属表面制备一层耐腐蚀薄膜。

内容

在HMDSO/O2气息制作透气膜方式中中，HMDSO用作硅源，其在化合物化方式中中，还发生非常多的H，OH，C基团。C. Vautrin-Ul [1] 等等以2.45GHz微波射频用作化合物源，科研了HMDSO/O2此例对转成透气膜的物质与耐侵蚀性能参数的决定。图1为OES测试不同于HMDSO/O2此例下空气化合物化前提。中国世俱杯官网入口 是可以见到，如今HMDSO此例提升，等化合物中的C基团提升，O基团增涨。这变动中国世俱杯官网入口 对膜层的物质有关键决定。在HMDSO此例低时（为宜20%），膜层更加表示脱色硅；而在HMDSO此例高时（为宜80%），膜层更更加表示整合物。

图1 区别HMDSO/O2此例下空气正离子化

真对不同的基数的HMDSO/O2热场经济条件，C. Vautrin-Ul [1]几人了解了其浸蚀性，如图甲所示2。当HMDSO基数为80%，电位差匹配以完成非常大值，主要其耐浸蚀耐磨性以完成非常大，跟随HMDSO基数消减，电位差匹配也伴随消减，耐浸蚀耐磨性上升。

图2 不同的HMDSO/O2标准前提下的膜层EIS图  (□) HMDSO/O2 100/0，(×) HMDSO/O2 80/20，(○) HMDSO/O2 50/50， (●) HMDSO/O2 20/80HMDSO/O2标准下气态铝离子化

无论怎样增进HMDSO/O2基数有弊于添加越来越耐灼伤的类缩聚物膜层，但其坚硬程度却减低。D. Hegemann [2]宋江因以RF24v电源最为铝离子源，探讨了区别HMDSO/O2基数火成岩的膜层稳定性（如图已知2）。在O2/HMDSO基数为6.7：1时，膜层坚硬程度为5.8±1.4GPa，

图2 其他O2/HMDSO比列制得的膜层特点

杨氏模量为42.1±8.8GPa，与被氧化的硅相似性（硬度标准标准9-10GPa，杨氏模量69.3±0.4GPa）。的同时，膜层比热容1.9-2.0 g/cm3，比较接近于被氧化的硅比热容2.2g/cm3。能够FTIR研究，知道O2/HMDSO分配基数多于6：1时，膜层中仅有Si-O各类Si-CHn（n=2，3），可得出膜层成分表为SiO2,但有位置O原子团被Si-CHn（n=2，3）换用。伴随O2/HMDSO分配基数减小，膜层中知道Si-H，这就产生膜层硬度标准标准下跌。

结论

A HMDSO/O2正比为政者为政者差异，会造成胶层化学物质为政者为政者差异。在HMDSO正比80% 时膜层表示聚合反应物，耐灼伤稳定性最废，如果对抗强度降；在膜层正比20%时，膜层表示氧化的硅，耐灼伤稳定性为政者降，如果对抗强度比较高B 在操作HMDSO最为后驱体系备耐灼伤膜层时，应通过明确稳定性让选购靠谱HMDOS/O2正比，自我调节膜层耐灼伤技能和对抗强度以做到操作规范标准。