管筒内壁真空镀膜方法简介

引言

管筒内表面处理的方式最早采用的是电镀方法，但电解液污染环境。后来采用真空镀膜方法来处理管状构件内表面，包括化学气相沉积( Chemical Vapor Deposition，CVD)和物理气相沉积( Physical Vapor Deposition，PVD)。

化学气相沉积

电化学气相色谱仪沉积物物( CVD) 技术选择的有机溶剂为有机废气其他气体，不要受内腔形壮和大小的被限，只有管状结构件水的压强在工做有机废气其他气体中就可以了在其中表皮沉积物物所用贴膜，由于更易于操作繁多形壮的镗孔。

1）热化学气相沉积( H-CVD) 方法

在90时代Kwatera设计制作没事种内外观能镀一层薄薄的膜的CVD平衡控制系统，下图1右图。该平衡控制系统由熔融石英砂管具有管型高压气室，待镀管状钢结构材料构件处于高压气棚内并可沿高压气室心轴三维旋转，在通入含硅烷，氦气，二氧化氮及氩气的搭配气味，在公称直径为30 mm的熔融石英砂管壁内外观能堆积了Si3N4溥膜。

1—氩气瓶;2—氢氧化钠瓶;3—含 3% SiH4 的 N2;4，5，6—气瓶电源按钮开关; 7，8，9，10—联通蒸汽流量计; 11—大压力计;12—高頻率感受到按钮开关高压造成器; 13—高頻率感受到按钮开关高压造成器磁芯;14—石墨供暖器;15—待镀一层薄薄的膜的管; 16—柱状体熔融石英不良管式反应器;17—石墨轴套杆; 18—生橡胶瓶塞; 19—大压力计; 20—自思想; 21—翻转供暖器的杆; 22，23—气瓶电源按钮开关;

图1管内CVD沉积 Si3N4 薄膜装置示意

2）等离子体增强化学气相沉积( PECVD) 方法

Lackner 等人采用脉冲直流辉光放电装置(如图 2所示)，对聚合物管内壁沉积了 DLC 薄膜，发现不同的气体(氩气、氧气、乙炔及空气) 通入时对内壁轰击溅射及沉积DLC 膜的润湿性能影响较大。

图 2 低标准气压输入脉冲整流辉光充放电试验装置表示

物理气相沉积

物理学上的色谱岩浆岩(Physical Vapor Deposition，PVD)技艺就是在负压必备条件下采取物理学上的最简单的方法将资料源（混合物或液状体）外表热解成气态原子团或分子结构，或这部分电离成化合物，并借助血压低压高混合气体（或等化合物体）工作，在基体外表岩浆岩有着某项特定能力的溥膜的技艺。

1）真空蒸镀方法

德的Helmut Neff 几人在管道内部设制某个线状黑色合金金属靶，采用在靶上施用某个电磁工作电流使其发出电蒸发掉，而使在枪械管道内部积累黑色合金金属膜，如图是3如图所示。

1—神器管; 2—撑起、架; 3—探针 1; 4—探针 2; 5—神器内表面能; 6—主探针 1;7—主探针 2; 8—线状靶材; 9—电绝缘件;  10—靶材卷;11—复合块;12—复合块外部;13—輔助探针; 14—电线 1;15—电线 2; 16—按钮开关; 17—电脉冲供电; ‍

图 3管外化掉烫金属透明膜传动装置提示

2）溅射镀膜方法

日本的 Kawasaki发明了一种磁控空心-阴极放电装置，如图4所示。采用该装置在铜管内沉积了钛薄膜，铜管的内径为20 mm，长 100 mm。通过一个直流电源来产生氩等离子体。由于在待处理管件外设置磁芯以产生磁场，对空心阴极放电产生的等离子体流进行约束控制，在一定程度上促进了管内薄膜轴向的均匀性。

图4 磁控中空-阴离子电池充电器

3）电弧离子镀技术

德国的Wesemeyer 等人开发了一种中心柱靶电弧离子镀膜装置，如图5 所示，并获得了美国专利。该装置可以对内径100 mm 的管件内表面镀膜，但由于柱靶的尺寸限制，不能处理内径低于100 mm 的管件。

1—钢塑复合管;2—机械泵箱室;3—机械泵箱室张嘴;4—焊弧挥发仪器;5—封闭环;6—负极;7—阳极;8—引弧针;9—软镊子;10—绑定仪器;11—动杆;12—球联轴器;13—封闭垫;14—防灰垫;15—预抽口;16—精抽口;17—伸收关闭的结构

图5 管内表面中心柱靶电弧离子镀膜装置

总结近些余年，而对于管筒产品工件内外观个人防护的市场需求越发越高，也有利于一些形式的持续不断完善快速发展。电镀工艺形式主要是因为严重污染源区域可以计划经济体制杀敌。现今，药剂学色谱积累形式中，热药剂学色谱积累( H-CVD) 形式和PECVD形式可在管道内部借助生产混合气体裂解和离化积累表层。磁控溅射形式可积累的透明膜常见范围广，但会收到中心点柱状体靶厚度款式的控制。电弧放电铁铁离子镀形式对钢管扣件壁上电镀等等可获到极为低密度的膜层，主要是因为受等铁铁离子体互传历程中的折损及大小粒严重污染源，更细更长钢管扣件内外观电镀等等仍遇到大挑战。总的看来各方面内外观真空度电镀等等形式各自有其优缺点分析势，是如何找出适合的的更牢靠的壁上电镀等等形式仍是未来的设计的重点村。