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公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊

司技木支撑体系公司有7篇散文选登《国内 的表面水利》杂志网站“高离化磁控技木与应该用”专刊，充分体现中国世俱杯官网入口科技产业在高功效磁控溅射领域有较多的技木累积。


1. HiPIMS电原的设定理论知识及理论研究突破2. 鉴于高额定功率激光脉冲磁控溅射的Cr膜层科研进步3. 高酒精燃烧激光脉冲新HiPIMS模试对TiN/CrN双层膜空间结构和性能参数的影晌4. 电-磁场强度分工协作明显增强HiPIMS技术设备的CrAl靶蓄电池放电行为举动及CrAlN透明膜准备5. 基体偏压对高公率激光脉冲磁控溅射制作CrAlN贴膜耐腐蚀性的后果6. 高电机功率脉宽磁控溅射管道内壁的堆积Cr透气膜成分及使用性能7. 细长管口外观镀Cu步骤中的空芯阴离子辉光电科技


下附对应友链：



高离化磁控技术与应用


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var _hmt = _hmt || []; (function() { var hm = document.createElement("script"); hm.src = "https://hm.baidu.com/hm.js?4b3ee861d5af59f35934c3b5eef6acc3"; var s = document.getElementsByTagName("script")[0]; s.parentNode.insertBefore(hm, s); })();